光柵是光譜儀重要的分光器件,它的性能直接影響整個光譜儀系統(tǒng)的性能。
光柵分為刻劃光柵、復(fù)制光柵、全息光柵等??虅澒鈻攀怯勉@石刻刀在涂薄金屬表面機械刻劃而成的;復(fù)制光柵是用母光柵復(fù)制而成。典型刻劃光柵和復(fù)制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽??虅澒鈻啪哂醒苌湫矢叩奶攸c,全息光柵光譜范圍廣,雜散光低,且可作為高光譜分辨率。
選擇光柵主要考慮下面幾個因素:
①光柵刻線,光柵刻線多少直接關(guān)系到光譜分辨率,刻線多光譜分辨率高,刻線少光譜覆蓋范圍寬,兩者要根據(jù)實驗靈活選擇;
②閃耀波長,閃耀波長為光柵zui大衍射效率點,因此選擇光柵時應(yīng)盡量選擇閃耀波長在實驗需要波長附近。如實驗為可見光范圍,可選擇閃耀波長為500nm;
③光柵效率,光柵效率是衍射到給定級次的單色光與入射單色光的比值。光柵效率愈高,信號損失愈小。為提高此效率,除提高光柵制作工藝外,還采用特殊鍍膜,提高反射效率。